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因为在单一晶片蚀刻工具中要求高等离子体密度和低压力，所以已经和正在研制大量商业出售的感应蚀刻装置。本文回顾低压力感应等离子体的一些历史，给出感应等离子体的特性。限制及校正，并介绍等离子体加工的用途，也讨论了趋肤深度，ｒｆ线圈阻抗和效率的理论。
等离子体加工用的感应等离子体
【摘 要】
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因为在单一晶片蚀刻工具中要求高等离子体密度和低压力，所以已经和正在研制大量商业出售的感应蚀刻装置。本文回顾低压力感应等离子体的一些历史，给出感应等离子体的特性。限制
【出 处】
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国外核聚变与等离子体应用
【发表日期】
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1997年1期
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