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自从分子束外延生长技术出现以来,半导体物理的研究获得许多惊人的突破。近年来这些成果被应用于半导体器件和电路的研制,形成一门新的能带工程。本文简要介绍从杂质工程到能带工程的发展过程,以及能带工程的三种基本方法。
制造半导体器件的能带工程
【摘 要】
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自从分子束外延生长技术出现以来,半导体物理的研究获得许多惊人的突破。近年来这些成果被应用于半导体器件和电路的研制,形成一门新的能带工程。本文简要介绍从杂质工程到能
【机 构】
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航空航天工业部二院二十五所
【出 处】
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系统工程与电子技术
【发表日期】
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1989年11期
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