【摘 要】
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采用磁控溅射法在YG6类硬质合金表面与TiAlN薄膜之间沉积TiN过渡层,研究TiN过渡层对膜基结合性能的影响。采用划痕法测试各工艺条件下薄膜与基体之间的结合性能,实验结果表明
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采用磁控溅射法在YG6类硬质合金表面与TiAlN薄膜之间沉积TiN过渡层,研究TiN过渡层对膜基结合性能的影响。采用划痕法测试各工艺条件下薄膜与基体之间的结合性能,实验结果表明,TiN过渡层的引入显著地增强了TiAlN与硬质合金基体之间的结合性能,平均临界载荷(LC)由未引入TiN过渡层前的41.6N提高到46N;同时,TiN过渡层沉积时间为10min,平均临界载荷LC达46.4N,其厚度的继续增加不能显著增强膜基结合性能。
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