【摘 要】
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本文用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯（PET）薄膜，经强氧化液（浓硫酸与重铬酸钾的混合液）腐蚀，产生有序微米多孔阵列PET模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因
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本文用掩膜工艺电子束蚀刻技术产生具有潜影的聚酯（PET）薄膜，经强氧化液（浓硫酸与重铬酸钾的混合液）腐蚀，产生有序微米多孔阵列PET模板。讨论了辐照剂量、腐蚀时间以及腐蚀温度等因素对基膜蚀刻和腐蚀的影响。结果表明：随着辐照剂量、腐蚀温度和腐蚀时间的增加，PET基膜更易被腐蚀。IR、DSC测量结果表明：辐照导致化学键的断裂、非晶化转变，是导致辐照PET薄膜的腐蚀失重率增加的原因。用此方法制备了孔径大小一致的微米级有序多孔阵列PET模板。
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