一种减少金属线Al空洞的金属线溅射膜工艺

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【摘要】

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本发明属于半导体集成电路制造工艺技术领域，具体涉及一种金属线溅射膜工艺。为了有效地解决金属线Al空洞问题，本发明在溅射完Al后，不溅射Ti，用N2气等离子体处理Al表面，使其表面形

【作者】

：

无

【机构】

：

上海集成电路研发中心有限公司,上海华虹（集团）有限公司

【出处】

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表面技术

【发表日期】

：

2007年6期

【关键词】

：

ALN 金属线膜工艺溅射空洞半导体集成电路 TIN膜制造工艺技术

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本发明属于半导体集成电路制造工艺技术领域，具体涉及一种金属线溅射膜工艺。为了有效地解决金属线Al空洞问题，本发明在溅射完Al后，不溅射Ti，用N2气等离子体处理Al表面，使其表面形成一层薄的AlN膜（缓解Al和TiN之间的应力），而后直接溅射TiN膜，金属层结构为Ti／TiN／Al／AlN／TiN；刻蚀后金属线无需退火，

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