刘玉岭教授，博士生导师，第九届、第十届、第十一届全国政协委员，国家级有突出贡献中青年专家。他治学严谨，学风正派，创新成果业绩突出：以他为第一发明人，获得国家发明奖5项，省部级科技发明与进步奖21项，取得发明专利57项，美国发明专利3项；出版专著5部，发表论文200余篇。他还很注重对学生的培养，在他的悉心教导下培养硕士、博士、博士后共百余名；以他为学术带头人的微电子学科是硕士、博士、博士后等高层次人才培养的省级重点学科。这一切源于他对祖国科技事业执著追求和孜孜不倦的创新精神。
　　走近刘玉岭，看到的是他辉煌的创新历程：1979年我国引进日本11条IC生产线，其硅衬底抛光材料需要由日本不二见株式会社进口。刘玉岭看在眼里急在心里，针对该产品黏度大、结块、高钠离子污染环境等问题，发明了悬浮性好、无钠离子、不挥发、易清洗的FNO-MOS型抛光液，价格仅为日本的十分之一，该成果获天津科技成果二等奖，国家发明四等奖；2000年刘玉岭发明的以化学作用络合胺化为技术路线碱性CMP材料与相应工艺技术，低于目前世界花数亿元巨资研发的电化学抛光（ECMP）机械压力的三分之一，为GLSI向45nm以下产业化发展做出创造性贡献，该技术已获国家发明专利54项，克服了占世界主导市场的酸性浆料强机械研磨后溶解机理模型存在的速率低、机械作用大、工艺复杂等难题；他在“ULSI衬底表面洁净技术”研究中，首次提出了优先吸附理论及数学模型：t=Kr2/f1f2S；发明了“专用界面活性剂处理晶片表面吸附物技术”，使吸附物处于物理吸附状态的时间延长了30倍以上，并采用集中清洗，提高了效率，节省了试剂。该技术已在洛阳740、有研硅股等企业规模应用，仅刷片机一项，可节省3936万元，专家鉴定该项技术为国际领先水平，获国家发明专利，天津市发明二等奖，国家发明三等奖，2000年被科技部列为国家级科技成果重点推广计划和国家级新产品。目前，新研制的半导体膜电-化清洗技术应用于GLSI清洗工艺，同时去除有机物与金属离子沾污，既节能又环保。
　　在这些发明专利中最让他骄傲的技术是“FA/O均腐蚀抛光液与抛光技术”。由于采用自己研发的多功能强络合剂（同时作pH调节剂，缓蚀剂），有效控制了重金属杂质沾污，洛阳鼎晶半导体材料公司用此抛光液加工的IC衬底片成为唯一最可靠的“神五”、“神六”、“神七”专用电路硅衬底，为航天事业作出贡献，获国家发明三等奖，被国家5部委审评为国家级新产品，被国家科委列为国家科技成果重点推广计划。
　　在刘玉玲的科研之路上，一直坚持产学研用相结合，他领衔创建了与微电子技术与材料相结合的产学研实体，建立6000吨表面加工耗材生产线，产品已在京、津、沪、浙等十多个省市的引进生产线上取代了进口，进行新技术培训1000余人次。台湾广润科技公司、台湾弘弦科技公司、国家工程物理九院、洛阳空空导弹研究院、电子45所等众多企业与他签订了技术协议。他还是国家中长期科技发展重大专项项目、国家重点安全基金NSAF等项目的技术负责人。他长期为大中企业的第一线解决新技术问题。在科研成果推广中培训技术人员1000余人次。
　　刘玉岭教授作为我国微电子技术与材料CMP超精细领域技术带头人，在国内外享有较高的声誉。国际CMP耗材最有影响的多家专业公司多次提出买断该技术，目前由中芯国际支持的以刘玉岭教授为负责人的国家重大专项“极大规模集成电路平坦化材料与技术”已进入产业化阶段，产品在理论、方法、路线和材料方面均实现了创新，性能提高，工艺简化，成本低，环境友好。2012年获国家02专项验收成绩优秀，该团队成为100多个承担项目单位中五个优秀团队之一。硅、蓝宝石等产品已在中国华晶、华微等30多条引进生产线上规模化应用，代替进口产品，取得经济效益超过亿元。刘玉岭教授无疑是科学家，但他同时又是企业家、实干家，他的创新之光照耀中国走向世界的同时，也为祖国带来了巨大的经济效益。