FORMATION OF MANGANESE SILICIDE THIN FILMS BY SOLID PHASE REACTION

来源 :金属学报：英文版 | 被引量 : 0次 | 上传用户：liuaxing1314

【摘要】

：

Manganese silicide MnSi2-x thin films have been prepared on n-type silicon substratesthrough solid phase reaction. The heterostructures were analyzed by X-ray d

【作者】

：

E.Q. Xie W.W. Wang N. Jiang D.

【机构】

：

DepartmentofPhysics

【出处】

：

金属学报：英文版

【发表日期】

：

2002年2期

【关键词】

：

MANGANESE silicide in SITU sheet resistance solid phase reaction infrared SPEC

【基金项目】

：

国家自然科学基金，甘肃省自然科学基金

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Manganese silicide MnSi2-x thin films have been prepared on n-type silicon substratesthrough solid phase reaction. The heterostructures were analyzed by X-ray diffraction,Rutherford backscattering spectroscopy, Fourier transform infrared transmittance spe

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