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离子束辅助轰击下低能碳离子注入
离子束辅助轰击下低能碳离子注入
来源 :新技术新工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户:adamas522
【摘 要】
:
材料表面经离子束辅助轰击下低能碳离子注入工艺处理后,形成由碳注入层和类金刚石碳薄膜涂层组成的改性层,其中注入层深度比DIM工艺深1倍以上.40Cr钢表面改性后显微硬度HV 可
【作 者】
:
周灵平
李绍禄
李德意
黄桂芳
【机 构】
:
湖南大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
新技术新工艺
【发表日期】
:
2001年12期
【关键词】
:
离子注入
离子束
类金刚石碳薄膜
表面改性
implantation
ion beam
diamond- like carbon thin film
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材料表面经离子束辅助轰击下低能碳离子注入工艺处理后,形成由碳注入层和类金刚石碳薄膜涂层组成的改性层,其中注入层深度比DIM工艺深1倍以上.40Cr钢表面改性后显微硬度HV 可提高20%~128%.
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