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ASML发布最新沉浸式光刻设备可用于38nm存储器
ASML发布最新沉浸式光刻设备可用于38nm存储器
来源 :中国集成电路 | 被引量 : 0次 | 上传用户:green7116aaa
【摘 要】
:
ASML Holding NV近13在SEMICON West上发布其最新的沉浸式光刻设备Twinscan XT 1950i。尽管该设备与之前的同类产品同样采用1.35孔径(NA),然而该系统的分辨率从40nm改善至38nm,这
【出 处】
:
中国集成电路
【发表日期】
:
2008年8期
【关键词】
:
光刻设备
沉浸式
存储器
SEMICON
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ASML Holding NV近13在SEMICON West上发布其最新的沉浸式光刻设备Twinscan XT 1950i。尽管该设备与之前的同类产品同样采用1.35孔径(NA),然而该系统的分辨率从40nm改善至38nm,这能使芯片在面积上收益10%。
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