【摘 要】
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研究了一种基于聚焦离子束（FIB）刻蚀法制备软刻蚀用母模板的新方法。该方法采用FIB刻蚀技术在Si基底上制备出15μm×15μm的轮廓清晰的三维结构作为弹性印章的母模板,三甲
【机 构】
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西南科技大学材料科学与工程学院,中国工程物理研究院激光聚变研究中心
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研究了一种基于聚焦离子束（FIB）刻蚀法制备软刻蚀用母模板的新方法。该方法采用FIB刻蚀技术在Si基底上制备出15μm×15μm的轮廓清晰的三维结构作为弹性印章的母模板,三甲基氯硅烷（TMCS）作为抗黏连层旋涂于Si基底表面,其后旋涂聚二甲基硅氧烷（PDMS）预聚物复制模铸出与Si基底相反的微三维结构。通过接触角测量仪检测Si样品表面疏水性能,并用原子力显微镜（AFM）对PDMS样品形貌进行检测。研究结果表明,特征图形得到了很好的转移。该方法相对于传统软刻蚀母模板制备方法,加工的三维结构具有操作
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