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采用磁控溅射技术,分别使用SiO2、SiON、Al2O3、AlON作为过渡层,在有机玻璃（PMMA）基底上制备了ZAO薄膜。利用紫外-可见光谱仪、X射线衍射仪（XRD）、原子力显微镜（AFM）和划痕仪对不同过渡层上制备的ZAO膜层的光电特性、薄膜结构、表面形貌及附着力进行了研究。结果表明,不同的过渡层对400800nm波长范围内的光的透过率影响不大,在不同过渡层上制备的ZAO薄膜均展现了c轴择优取向。过渡层的添加不仅提高了ZAO薄膜的表面粗糙度和电阻,而且进一步提升了ZAO薄膜与PMMA基底的附着力。