GaPl—xNx混晶的喇曼散射谱

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wenhonghe
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在室温下测试了GaPl-xNx(x=0.05%-3.1%)混晶的喇曼散射谱.在一级喇曼散射谱中观测到了GaP的LO(Γ)模和强度较弱的禁戒TO(Γ)模以及N的局域模(495cm^-3).在N组分较高的一组样品(x=1.3%-3.1%)中,还观察到了位于GaP的LO(Γ)模和TO(Γ)模之间的由N导致的LO(N)模的喇曼频移(387cm^-1),其强度随着N浓度的增加而增强.在二级喇曼散射谱中,除了观测到布里渊区中心的声子散射峰2LO(Γ)外,还观测到了布里渊区边界的声子散射峰2LO(L)、2TO(X)以及
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