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报道用常压化学汽相沉积(APCVD)工艺制备TiO x纳米光学薄膜的研究结果,分析衬底温度对薄膜结构及折射率的影响,讨论在抛光硅片及绒面硅片上制备的TiOx薄膜光学减反射特性,并优化了工艺条件.
纳米TiOx光学薄膜的制备及性能分析
【摘 要】
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报道用常压化学汽相沉积(APCVD)工艺制备TiO x纳米光学薄膜的研究结果,分析衬底温度对薄膜结构及折射率的影响,讨论在抛光硅片及绒面硅片上制备的TiOx薄膜光学减反射特性,并
【机 构】
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西安交通大学理学院
【出 处】
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应用光学
【发表日期】
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2001年5期
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