在(111)Si衬底上磁控溅射法制备纳米SiC薄膜

来源 :山东师大学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：safe110a

【摘要】

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用射频磁控溅射法在硅衬底上生长出纳米颗粒结构的碳化硅薄膜 .在N2 气氛下经 3h 110 0℃退火 ,用X射线衍射 (XRD)、付里叶红外吸收谱 (FTIR)、X光电子能谱 (XPS)、原子力显

【作者】

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安霞庄惠照李怀祥杨利修显武薛成山

【机构】

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山东师范大学半导体研究所

【出处】

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山东师大学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2001年04期

【关键词】

：

磁控溅射纳米材料碳化硅薄膜光致发光

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用射频磁控溅射法在硅衬底上生长出纳米颗粒结构的碳化硅薄膜 .在N2 气氛下经 3h 110 0℃退火 ,用X射线衍射 (XRD)、付里叶红外吸收谱 (FTIR)、X光电子能谱 (XPS)、原子力显微镜 (AFM )对薄膜样品进行结构、颗粒大小、组分和形貌分析 ,并在室温条件下观察薄膜的光致发光现象

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