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颗粒度是CMP工艺的重要指标。针对CMP的几个工艺参数进行实验,获得了各参数对硅片CMP后颗粒度的影响。
硅片CMP颗粒度的几个影响因素研究
【摘 要】
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颗粒度是CMP工艺的重要指标。针对CMP的几个工艺参数进行实验,获得了各参数对硅片CMP后颗粒度的影响。
【机 构】
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北京烁科精微电子装备有限公司
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2020年2期
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