氮化硅陶瓷与金属热等静压扩散连接的研究

来源 :钢铁研究学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wangchaohui
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本文对热等静压方法进行Si_3N_4与碳钢的扩散连接过程进行了研究。考查了温度、时间,压力、陶瓷密度及表面粗糙度以及加入一层或两层Ti、Zr、Mo、Cu、Ni和Ni-Mo等中间层对连接强度的影响。检测了陶瓷金属连接的界面产物。结果表明,温度、压力、时间分别为1060~1340℃,50~150 Mpa,1~5 h范围变化时,Si_3N_4/钢界面都能产生很好的结合,连接体的强度随陶瓷密度的增加而提高。由于Ti、Zr、Mo中间层与Si_3N_4的反应产物分别为TiN,ZrN,Mo_5Si_3等脆性相,断裂总发生在陶瓷/金属界面上。中间层为Ni-Mo时,连接体具有最佳强度。 In this paper, the hot isostatic pressing method Si_3N_4 and carbon steel diffusion connection process were studied. The effects of temperature, time, pressure, ceramic density and surface roughness, and the addition of one or two intermediate layers of Ti, Zr, Mo, Cu, Ni and Ni-Mo on the bonding strength were investigated. The interfacial product of the ceramic metal connection was examined. The results show that the interface of Si_3N_4 / steel can be well bonded when the temperature, pressure and time are 1060 ~ 1340 ℃, 50 ~ 150 Mpa and 1 ~ 5 h, respectively. The strength of the connector increases with the increase of the ceramic density improve. The reaction products of Ti, Zr and Mo intermediate layers with Si_3N_4 are brittle phases such as TiN, ZrN and Mo_5Si_3, respectively, and the fracture always occurs at the ceramic / metal interface. When the middle layer is Ni-Mo, the connector has the best strength.
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