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利用脉冲激光分子束外延技术(MBE)在LaAl03(100)基片上依次沉积了La2/3Sr1/3Mn03(LSMO)、BaTi03(BTO)和Bi4Ti3012(BIT)薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、压电力显微镜(PFM)和铁电仪研究了复合薄膜的晶体结构、表面形貌、畴结构、单点压电响应信号以及电滞回线。结果表明所制BIT/BTO铁电复合薄膜沿O轴择优取向生长,其PFM相位曲线的畴翻转特征加之明显的振幅.电压蝴蝶曲线证实了该复合薄膜具有良好的铁电性:在外加8V电压下BIT/BTO复合薄膜的剩余极化强度(