钛合金表面离子束增强沉积MoS2基膜层及其性能

来源 :中国有色金属学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:JIA814418
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将离子束增强沉积(IBED)技术与离子束溅射沉积技术相结合,在钛合金表面制备了MoS2, MoS2-Ti复合膜。研究了膜层的形态、结构、膜基结合强度、硬度、摩擦学性能及抗微动(fretting)损伤性能。结果表明:所获膜层较纯溅射膜结合强度高、致密性好,复合膜中允许的金属元素含量大。通过恰当地控制复合膜中Ti的含量,可获得以(002)基面择优取向的MoS2-Ti复合膜,该膜层有较好的减摩和抗磨综合性能,能够显著地改善钛合金的常规磨损、微动磨损(FW)和微动疲劳(FF)性能,特别是在磨损严重的大位移整体滑移
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