以化学镀的方法在单壁碳纳米管表面沉积了镍钴磷合金。讨论了Co^2＋与Ni^2＋的浓度比、镀液温度、pH对沉积速率的影响。当镀液中Co^2＋与......

以SiC为原材料,以KNaC4H4O6为络合剂、(C2H3O2)2Pb为稳定剂,用化学镀方法,在pH9～10,65℃条件下,将纳米SiC表面处理制得Ni–Co–P/Si......

表文研究了磁带电镀镍钴磷合金工艺,并成功地使用了氮化物镀液,镀液组成和操作条件如下:氯化钴90～100g/L,氯化镍90～100g/L,氯化铵80～1......