【摘 要】
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化学机械抛光(CMP)是多层铜布线的关键技术之一.随着集成电路的发展,碱性抛光液将逐渐成为研究热点.而双氧水作为抛光液中最常用的氧化剂,其最大问题是导致抛光液不稳定.在此
【机 构】
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河北工业大学电子信息工程学院,天津300130;天津市电子材料与器件重点实验室,天津300130
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化学机械抛光(CMP)是多层铜布线的关键技术之一.随着集成电路的发展,碱性抛光液将逐渐成为研究热点.而双氧水作为抛光液中最常用的氧化剂,其最大问题是导致抛光液不稳定.在此基础上研究了双氧水稳定剂(聚天冬氨酸钾(PASP))对碱性铜膜抛光液去除速率及稳定性的影响.结果表明,在含有胺类络合剂的两种碱性铜膜抛光液中,双氧水稳定剂的加入会在一定程度上提高铜的去除速率.在2h内,双氧水稳定剂对抛光液的稳定性起到了明显效果,但随时间的增加其会逐渐失去作用,甚至使抛光液变得更加不稳定.
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