液晶显示技术在检查二氧化硅层中缺陷的应用

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一、引言介质膜在半导体器件工艺中起着十分重要的作用,它的结构、化学性质和电学特性已成为改进器件性能与可靠性的关键。问题不仅在于工艺上精确地控制介质膜的性质,而且也在于鉴定它的质量和确定其不完整部分存在的位置、数量和性质(其不完整性可能是膜中的 I. INTRODUCTION The dielectric film plays a very important role in the process of semiconductor devices. Its structure, chemical properties and electrical properties have become the key to improve device performance and reliability. The problem lies not only in the precise control of the properties of the dielectric film but also in the identification of its quality and the determination of the location, quantity and nature of its incomplete part (its incompleteness may be in the film
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