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以ＭｇＯ为例，对ＡＣ ＰＤＰ中电子束蒸发介质保护膜制备的工艺参数，如成膜时基板温度、沉积速率、成膜后的热处理条件等对ＡＣ ＰＤＰ工作特性的影响进行了系统的研究和分析，讨论了保护膜成分、结构、形貌等对发射特性和ＡＣ ＰＤＰ工作特性的影响，探讨了成膜的最佳工艺，并根据在放电过程中，由离子轰击产生的ＭｇＯ膜表面特性的变化和假设氧对ＭｇＯ膜表面特性的作用，对观测到的放电特性对ＡＣ ＰＣＰ板各种制造工艺参数