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研究双离子束溅射组装铜钨复合膜Ar^＋能量及束流对膜影响。用XRD分析溅射沉积后的薄膜结构。实验结果表明,随靶Ar^＋能量和束流增加,铜钨膜向晶态化转变。铜钨复合膜的沉积速率主要由钨靶Ar＋束流决定,并且增加气压会使复合膜晶粒尺寸变小,固溶进钨的铜原子也会相应减少。
Ar^＋及沉积气压对离子溅射制备铜钨复合膜结构的影响
【摘 要】
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研究双离子束溅射组装铜钨复合膜Ar^＋能量及束流对膜影响。用XRD分析溅射沉积后的薄膜结构。实验结果表明,随靶Ar^＋能量和束流增加,铜钨膜向晶态化转变。铜钨复合膜的沉积速率
【机 构】
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井冈山大学工学院新型低碳环保建材研究所
【出 处】
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兵器材料科学与工程
【发表日期】
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2010年4期
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