【摘 要】
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在低工作压力（1 psi）和低磨料用量（纳米硅溶胶体积分数2.5%,后同）下,通过单因素实验探讨了碱性抛光液组分（包括氧化剂H2O2、FA/O型螯合剂和非离子型表面活性剂）含量对铝栅化学机械
【机 构】
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河北工业大学电子信息工程学院、天津市电子材料与器件重点实验室,华北理工大学
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在低工作压力（1 psi）和低磨料用量（纳米硅溶胶体积分数2.5%,后同）下,通过单因素实验探讨了碱性抛光液组分（包括氧化剂H2O2、FA/O型螯合剂和非离子型表面活性剂）含量对铝栅化学机械抛光过程中铝去除速率的影响,确定抛光液的组成为：氧化剂1.5%,螯合剂0.5%,表面活性剂1.0%。铝的去除速率为100 nm/min,抛光后的表面粗糙度为8.85 nm。
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