一种新的红外非线性光学晶体材料-K3V5O14

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作为红外非线性光学材料,氧化物和磷铜铁矿半导体材料的透过光谱可到中远红外谱区,但它们的晶体损伤阈值很低.本文提出并合成一种新的红外非线性光学材料五钒酸钾-K3V5O14,它的空间群是P31m,透过光谱范围可达到10μm,而且其粉末倍频效应大于KDP晶体的20倍.
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