沉积速率对HfO2薄膜应力和光学特性的影响

来源 :曲阜师范大学学报(自然科学版) | 被引量 : 0次 | 上传用户：hongxing35

【摘要】

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利用电子枪蒸镀法制备了HfO2薄膜,控制沉积速率分别为3.3/s、5.5/s和9.6/s.利用ZGYO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-6700F冷场发射扫描电镜对样

【作者】

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齐瑞云吴福全郝殿中王庆吴闻迪

【机构】

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山东省激光偏光与信息技术重点实验室

【出处】

：

曲阜师范大学学报(自然科学版)

【发表日期】

：

2010年4期

【关键词】

：

薄膜应力沉积速率微结构折射率 Thin film stress deposition rate microstructure refractiv

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利用电子枪蒸镀法制备了HfO2薄膜,控制沉积速率分别为3.3/s、5.5/s和9.6/s.利用ZGYO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-6700F冷场发射扫描电镜对样品进行了测试.结果表明：在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是非晶态结构.样品的残余应力与本征应力变化趋势相同,都随沉积速率的加快先增后减,沉积速率为3.3/s时应力最小.不同沉积速率下制备样品的折射率都是正常色散,3.3/s沉积的样品色散较小并且有较好的表面平整度.这些结果为制备高性能HfO2薄膜提

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