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利用扫描电镜附件电子背散射衍射（Electron Backscattering Diffraction，EBSD）技术，用菊池花样质量（IQ）作为应力敏感参数，研究了InGaAsP／InP异质结构缓冲层和外延层界面处的应力分布。
EBSD在InGaAsP／InP异质结构弹性应力区域的研究
【摘 要】
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利用扫描电镜附件电子背散射衍射（Electron Backscattering Diffraction，EBSD）技术，用菊池花样质量（IQ）作为应力敏感参数，研究了InGaAsP／InP异质结构缓冲层和外延层界面处的应力分布
【机 构】
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武汉大学声光材料与器件教育部重点实验室,武汉大学物理科学与技术学院
【出 处】
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武汉理工大学学报
【发表日期】
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2007年E01期
【基金项目】
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国家自然科学基金项目（10375044,10435060）和教育部高等学校博士学科点专项科研项目（20050486054）
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