真空金属镀膜技术在潜在手印显现中的应用研究

来源 :真空科学与技术学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ljy2010
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真空金属镀膜(VMD)法是显现非渗透及半渗透性客体上潜在手印的一种非常有效的方法。虽然不作为常规处理方法使用,但与其他显现方法相比,VMD法最大的优势在于对常规方法无法处理的疑难检材上的潜在手印具有超强的灵敏度及良好的显现效果,在一些重大的疑难案件中发挥了重要作用。本文综述了国内外利用真空金属镀膜法显现潜在手印的研究进展,并对其在手印显现过程中的作用机理、主要影响因素等进行归纳总结,提出真空金属镀膜法用于手印显现时需要注意的事项以及未来的研究方向。 The Vacuum Metal Coating (VMD) method is a very effective way to visualize potential fingerprints on non-permeable and semi-permeable objects. Although not used as a conventional treatment method, the biggest advantage of the VMD method compared with other methods is its superior sensitivity and good visualization to potential fingerprints on difficult samples that conventional methods can not handle. In some major Difficult cases played an important role. This review summarizes the research progress of latent fingerprinting using vacuum metal plating method at home and abroad, summarizes its mechanism of action in the process of fingerprinting, main influencing factors and so on, and puts forward that vacuum metal coating method should pay attention to Matters and future research directions.
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