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本文讨论了制取均匀、致密、清洁ＭｇＯ保护膜的途径及不同工艺对膜和ＡＣＰＤＰ特性之影响。
大面积ACPDP保护膜的制备及其特性之研究
【摘 要】
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本文讨论了制取均匀、致密、清洁ＭｇＯ保护膜的途径及不同工艺对膜和ＡＣＰＤＰ特性之影响。
【机 构】
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杭州大学显示室
【出 处】
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真空电子技术
【发表日期】
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1995年3期
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