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在MRI模型框架下,将遗传算法与卷积及TV-Tikhonov正则化反卷积方法结合,对Ni/Cr多层膜样品在旋转和非旋转条件下测量的俄歇(AES)深度谱进行了定量分析,确定了膜层间的界面粗糙度,重构的原始膜层结构与高分辨透射电镜测量的结果非常好的吻合.
利用遗传算法定量分析Ni/Cr多层膜俄歇深度谱
【摘 要】
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在MRI模型框架下,将遗传算法与卷积及TV-Tikhonov正则化反卷积方法结合,对Ni/Cr多层膜样品在旋转和非旋转条件下测量的俄歇(AES)深度谱进行了定量分析,确定了膜层间的界面粗
【机 构】
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汕头大学理学院物理系,广东 汕头 515063;汕头大学理学院数学系,广东 汕头 515063;汕头大学理学院化学系,广东 汕头 515063
【出 处】
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真空
【发表日期】
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2021年4期
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