论文部分内容阅读
介绍了色分离光栅的设计原理,并对其制作工艺进行了研究。用套刻法以能量为450 eV、束流密度为80 mA/cm2、30°入射角的离子束对100 mm×100 mm石英基片进行刻蚀,制作出了周期为300μm色分离光栅。实验测得零级次上3ω(351 nm)光的归一化衍射效率达到了91.9%。结果表明,这套工艺方法在制作高衍射效率的CSG是可行的,并且具有刻蚀图形分辨率高、侧壁较陡等优点,为进一步制作高衍射效率的色分离光栅提供了参考。