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依据国内外低介电常数聚酰亚胺（PI）薄膜材料的专利研究情况，综述了近年来低介电常数PI薄膜的制备方法，包括引入含氟取代基、脂环结构、嵌段结构、微孔结构、无机杂化材料等方法制备低介电常数材料。同时，对低介电常数PI薄膜的研究趋势进行了展望。
低介电常数聚酰亚胺薄膜研究进展
【摘 要】
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依据国内外低介电常数聚酰亚胺（PI）薄膜材料的专利研究情况，综述了近年来低介电常数PI薄膜的制备方法，包括引入含氟取代基、脂环结构、嵌段结构、微孔结构、无机杂化材料等方法制
【机 构】
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桂林电器科学研究院有限公司
【出 处】
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中国塑料
【发表日期】
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2015年8期
【基金项目】
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桂林市科学研究与技术开发计划项目(20130119-2)
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