【摘 要】
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采用高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为//Ta（5nm）/Co75Fe25（5nm）/Ir20Mn80（12nm）/Ta（8nm）的双层膜,通过X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）和振动样品磁强计（VSM）研究了退火对双层膜的
【机 构】
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南京航空航天大学材料科学与技术学院,保山市发展和改革委员会
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采用高真空直流磁控溅射的方法制备了结构为//Ta（5nm）/Co75Fe25（5nm）/Ir20Mn80（12nm）/Ta（8nm）的双层膜,通过X射线衍射（XRD）、原子力显微镜（AFM）和振动样品磁强计（VSM）研究了退火对双层膜的结构及磁性能的影响 并通过样品在反向饱和场下停留不同的时间,研究了退火对双层膜的磁稳定性的影响。结果表明,退火使得IrMn（111）织构减弱,表面/界面粗糙度增大,交换偏置场减小,矫顽力增加,退火降低了双层膜的磁稳定性。
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