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应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统，进一步提升其在缺陷检测扫描电子显微镜（Scanning ElectronicMicroscope，简称SEM）技术的领导地位，这是首款可供芯片制造商用于无人生产环境的缺陷检测工具，能拍摄并分析20纳米影响良率的缺陷。
应用材料为20nm制程开发自主式缺陷检测SEM
【摘 要】
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应用材料公司推出Applied SEMVision G5系统，进一步提升其在缺陷检测扫描电子显微镜（Scanning ElectronicMicroscope，简称SEM）技术的领导地位，这是首款可供芯片制造商用于无人生产
【出 处】
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中国集成电路
【发表日期】
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2012年1期
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