BAS粘接碳化硅材料的性能

来源 :航空材料学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户：h120568

【摘要】

：

采用原位生成钡长石为烧结助剂,研究BAS/SiC复相陶瓷的低温无压液相烧结工艺,制备高致密度的陶瓷材料。通过XRD、SEM及力学试验机等研究烧结温度、BAS含量对复相碳化硅陶瓷的

【作者】

：

杨小波孙志强张冰清苗镇江王华栋吕毅

【机构】

：

航天特种材料及工艺技术研究所

【出处】

：

航空材料学报

【发表日期】

：

2019年3期

【关键词】

：

钡长石碳化硅无压烧结力学性能 celsiansilicon carbidepressureless sinteringmechanical propert

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采用原位生成钡长石为烧结助剂,研究BAS/SiC复相陶瓷的低温无压液相烧结工艺,制备高致密度的陶瓷材料。通过XRD、SEM及力学试验机等研究烧结温度、BAS含量对复相碳化硅陶瓷的致密化、组织结构及力学性能的影响。结果表明:在1800℃温度下原位生成了BAS相,运用无压液相烧结法制备出了密度达到3.2g/cm3的BAS/SiC复相陶瓷;陶瓷中BAS以六方结构析出、SiC颗粒均匀分布;烧结温度不宜超过1800℃,温度过高将促使碳化硅颗粒长大,损伤陶瓷材料抗弯强度和断裂韧度;当复相BAS/SiC陶瓷中BAS质量

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