适用于256MDRAM的溅射设备──PRIMUS─2500

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随着VLSI设计尺寸的细微化,关于布线层的形成,有许多难题迫切需要解决。本文就该公司在用于256MDRAM的溅射设备PRIMUS──2500上解决这些问题的情况加以叙述。 With the miniaturization of VLSI design dimensions, there are many problems that need to be solved urgently in connection with the formation of a wiring layer. This article addresses the company’s solution to these issues with PRIMUS -2500, a sputtering equipment used for 256M DRAMs.
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