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采用PIC／MCC模型，通过数值模拟的方法研究了束线离子和靶台复合加速离子注入过程中靶台偏压大小对注入过程离子动力学行为的影响，重点考察了不同偏压作用下离子的注入能量、注入剂量、注入角度以及注入范围的变化。结果表明，靶台上施加脉冲偏压后，在哀流离子的作用下空间电荷分布发生变化，束流正下方的电势线会发生凹曲，凹曲的电场同时又作用于空间中的带电粒子，影响粒子的运动；靶台偏压越高，零电势线距离靶台越远，靶台电场对离子的作用范围越大。离子的注入剂量、注入能量随着靶台偏压的增大而增大。而偏压对离子注入角度的影响并不