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研究了微流控芯片中大线距/线宽比条件下的UV-LIGA制作工艺。针对微电铸的要求,优化了大面积SU8曝光的工艺;通过计算机模拟分析和实验验证手段,提出了一种非平面微电铸方法,有效的解决了大线距/线宽比条件下的UV-LIGA工艺,为微流控器件的批量化制作成奠定了坚实的基础。
微流控芯片模具非平面微电铸技术
【摘 要】
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研究了微流控芯片中大线距/线宽比条件下的UV-LIGA制作工艺。针对微电铸的要求,优化了大面积SU8曝光的工艺;通过计算机模拟分析和实验验证手段,提出了一种非平面微电铸方法,
【机 构】
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中国科学技术大学精密机械仪器系,国家同步辐射实验室
【出 处】
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功能材料与器件学报
【发表日期】
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2008年2期
【基金项目】
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基金项目：中国科学院王宽诚博士后工作奖励基金,中国科学院创新项目基金.
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