【摘 要】
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全息光栅是一种广泛应用于光谱仪器的分光器件,也是光谱仪器的核心器件,光栅的种类很多,本文优化了基于金属掩模的全息微型纳米光栅的制作方案。基于GaAs衬底,用全息光刻和电
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全息光栅是一种广泛应用于光谱仪器的分光器件,也是光谱仪器的核心器件,光栅的种类很多,本文优化了基于金属掩模的全息微型纳米光栅的制作方案。基于GaAs衬底,用全息光刻和电感耦合等离子体(ICP)干燥蚀刻的方法制备了300 nm周期光栅。在实验中,将磁控溅射培养的金属硬罩引入蚀刻过程中,作为光栅蚀刻的屏障层,制备了Ni掩模以提高掩模的质量。比较了光刻胶、SiO2和Ni作为干燥蚀刻掩模对光栅蚀刻深度和形貌的影响。实验结果表明,该膜具有较强的抗蚀性。SEM的结果显示,100纳米厚的Ni作为硬掩模可以达到良好的光栅
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