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实验报导了α-Si:H薄膜作为优质的硅器件钝化保护膜在可控硅元件上的应用.指出,它能大幅度提高元件的正反向击穿电压,改善温度特性,具有明显的经济效益.还指出,α-Si:H钝化膜能吸取c-Si界面上的杂质进一步促使硅器件的优化.本文还讨论了提高α-Si:H钝化保护膜热稳定性的途径.
非晶硅钝化膜的热稳定性及其在可控硅元件上的应用
【摘 要】
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实验报导了α-Si:H薄膜作为优质的硅器件钝化保护膜在可控硅元件上的应用.指出,它能大幅度提高元件的正反向击穿电压,改善温度特性,具有明显的经济效益.还指出,α-Si:H钝化膜
【机 构】
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江南大学电子工程系,南京大学物理系,上海测试技术研究所
【出 处】
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固体电子学研究与进展
【发表日期】
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1991年2期
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