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采用部分烧结工艺，利用复合助剂A作为烧结助剂，成功的制备出了材质比较均匀且有较高强度、高气孔氮化硅陶瓷。借助XRD、SEM等仪器对其物相组成和微观结构进行了研究。实验结果表明：在适当的工艺下可以制得弯曲强度大于160MPa，气孔率〉50％的多孔氮化硅陶瓷。气孔主要是由长柱状β-Si3N4晶粒搭接而成的，均匀的气孔分布和高的长径比结构是获得高强度的主要原因。