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上世纪七、八十年代，采用平面磁控阴极大面积溅射技术镀制的阳光控制膜和低辐射膜被引入市场，以达到节能的效果。随着市场的发展与成熟，玻璃装配制造商们不仅对镀膜性能提出更高的要求，还要求更高的成品率和更低的生产成本。于上世纪80年代末到90年代初出现的旋转阴极技术对此需求提供了解决方案。旋转磁控阴极技术需要可靠高功率中频交流溅射电源的开发和使用，以充分发挥它们的潜力。