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在磁控反应溅射方法制备薄膜的过程中，等离子体发出较强的光，提出了用光谱控制溅射速率方法，并以该方法ＩＴＯ膜中的应用为例，说明该在实际应用中的具体过程。
光谱法控制溅射速率的研究
【摘 要】
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在磁控反应溅射方法制备薄膜的过程中，等离子体发出较强的光，提出了用光谱控制溅射速率方法，并以该方法ＩＴＯ膜中的应用为例，说明该在实际应用中的具体过程。
【机 构】
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浙江大学信电系
【出 处】
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真空科学与技术
【发表日期】
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1997年5期
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