纯铜表面纳米化对Ti离子注入的影响

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为了改善金属材料表面的综合性能,将表面改性技术和纳米技术相结合逐渐得到了人们的重视。用金属蒸气弧(MEVVA)源离子注入机,将能量为40keV,剂量为2×10^17ions/cm^2的Ti离子注入纳米纯铜中。利用透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射仪(XRD)、俄歇电子能谱(AES)对表层组织及注入浓度分布等进行了分析。研究结果表明,纯铜表面经过SMAT纳米化处理后,注入元素的浓度呈现高斯分布,与未处理的样品相比,峰值浓度提高了30%,注入深度达到160nm。
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