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积层绝缘树脂沾污去除和化学镀铜工艺
积层绝缘树脂沾污去除和化学镀铜工艺
来源 :印制电路信息 | 被引量 : 0次 | 上传用户:www752169
【摘 要】
:
概述了积层绝缘树脂用的去沾污和化学镀铜工艺,可以制造高速信号传输,微细线路和高可靠性的下一代半导体封装基板。
【作 者】
:
蔡积庆(译)
【机 构】
:
江苏南京
【出 处】
:
印制电路信息
【发表日期】
:
2012年2期
【关键词】
:
积层绝缘树脂
中和
整平剂
化学镀铜
半加成法
去沾污
Build-up isolation resin
Neutralization
conditione
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概述了积层绝缘树脂用的去沾污和化学镀铜工艺,可以制造高速信号传输,微细线路和高可靠性的下一代半导体封装基板。
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