铜及铜合金化学抛光工艺的改进

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对微酸性H2O2-HNO3型化学抛光工艺进行了改进,用L氧化剂替代部分易分解的H2O3,使H2O3浓度降低到原工艺配方的1/10,且抛光效果与原工艺相当,抛光液寿命大大提高,成本不足原工艺的1/3。讨论了抛光液中各组分浓度及工艺条件对抛光质量的影响,初步探讨了抛光机理。 The slightly acidic H2O2-HNO3 type chemical polishing process is improved, with L oxidant to replace part of the easily decomposed H2O3, the H2O3 concentration is reduced to 1/10 of the original process recipe, and the polishing effect is equivalent to the original process, the polishing liquid life is greatly increased , Less than the cost of the original process 1/3. The effects of the concentration of each component in the polishing solution and the processing conditions on the polishing quality were discussed. The polishing mechanism was discussed preliminarily.
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