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氢化物发生—ICP发射光谱测定纯钨中砷
氢化物发生—ICP发射光谱测定纯钨中砷
来源 :分析测试通报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:qzawxsecd829
【摘 要】
:
纯钨中杂质测定,国内外主要采用电弧发射光谱法,As的测定多以2349.84 A作分析线,测定下限约为0.001%,该谱线因受W2349.82A重迭干扰,故测定下限与准确度均难以满足工艺要求。
【作 者】
:
熊兴南
曲培秀
【机 构】
:
广州有色金属研究院,广州有色金属研究院
【出 处】
:
分析测试通报
【发表日期】
:
1986年03期
【关键词】
:
氢化物发生
光谱测定
ICP
测定下限
发射光谱法
杂质测定
分析线
升/分
完全还原
钨酸盐
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纯钨中杂质测定,国内外主要采用电弧发射光谱法,As的测定多以2349.84 A作分析线,测定下限约为0.001%,该谱线因受W2349.82A重迭干扰,故测定下限与准确度均难以满足工艺要求。ICP发射光谱对As、Sb、Pb等元素检
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化
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氢
化
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测
定
生
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氢
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物
发
生
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法
测
定
发
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氢
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