锡的石墨炉原子吸收法测定时氯化物干扰的研究

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作者研究了用石墨炉AAS定量测定锡时氯化物的干扰情况,并且用X线光电子分光法(XPS)对干扰机理进行了探讨,找到了消除干扰的方法。仪器与试剂日立170-50型原子吸收分光光度计,GA-2型石墨炉,测定条件为:波长224.6nm;狭缝0.4 nm;灯电流7.5 mA;干燥300℃, The authors studied the interference of chloride during the determination of tin by graphite furnace AAS, and discussed the interference mechanism by using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), finding the method to eliminate the interference. Instruments and Reagents Hitachi 170-50 atomic absorption spectrophotometer, GA-2-type graphite furnace, the determination conditions: wavelength 224.6nm; slit 0.4 nm; lamp current 7.5 mA; drying 300 ℃,
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