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针对厚胶曝光参数随不同光刻胶厚度及工艺条件变化的特点，在原有Dill曝光模型基础上，建立了适合于描述厚胶曝光过程的增强Dill模型。并将统计分析的趋势面法引入到厚胶曝光参数变化规律的研究中，给出了厚胶AZ4562曝光参数随胶厚及工艺条件的变化趋势，为开展厚胶光刻实验研究和曝光过程模拟提供指导性依据。