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采用电子束蒸发技术及其辅助工艺制备了TiO2薄膜,利用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的组织结构进行了表征,采用紫外可见分光光度计研究了TiO2薄膜的折射率变化.结果表明:传统电子束蒸发镀制的TiO2薄膜的折射率低于块体值,通过调节氧气压、沉积速率和衬底温度可在1.97~2.22范围内调控其折射率;采用离子束辅助轰击可使薄膜致密化,获得折射率在2.06~2.42范围内变化的TiO2薄膜;利用斜角入射沉积可控制薄膜生长角度与孔隙率,实现折射率在1.71~2.18